对胶件表面不允许有顶针痕迹(如透明胶件)，且表面有较高要求的胶件，可利用胶件整个表面采用推块顶出，如图8.4.1所示。

8.4.1机构要点

推块脱模要点：

(1)推块应有较高的硬度和较小的表面粗糙度；选用材料应与呵镶件有一定的硬度差(一般在HRC5度以上)；推块需渗氮处理(除不锈钢不宜渗氮外)。

(2)推块与呵镶件的配合间隙以不溢料为准，并要求滑动灵活；推块滑动侧面开设润滑槽。

(3)推块与呵镶件配合侧面应成锥面，不宜采用直身面配合。

(4)推块锥面结构应满足如图8.4.2所示；顶出距(H1)大于胶件顶出高度，同时小于推块高度的一半以上。

(5)推块推出应保证稳定，对较大推块须设置两个以上的推杆。

8.4.2推块机构示例

(1)胶件如图8.4.3所示，推块机构如图8.4.4所示。此机构考虑推块脱模面积大，顶力均匀特点，采用内、外推块顶出，使脱模平衡。

(2)胶件如图8.4.5所示，胶件要求不能有顶针痕迹；推块机构如图8.4.6所示。此机构应用镶件推块脱模，推块痕迹均匀的特点。

(3)透明胶件不能有顶针痕迹，采用推块机构脱模，如图8.4.7所示。